Internationaal fototalent mag exposeren in het nieuw geopende atelier van de Nederlandse ambassade in Parijs. Vandaag opent de tentoonstelling Foam Talent 2014 in l’Atelier Néerlandais. Foam Talent 2014 brengt 21 innovatieve beeldmakers onder de 35 jaar bij elkaar die ieder op geheel eigen wijze een verhaal vertellen met hun portfolio’s.
Het Atelier néerlandais is een springplank zijn voor ontwerpers, fotografen, architecten, uitgevers, kortom alle Nederlandse creatieve ondernemers die zich willen ontwikkelen in Frankrijk.
Expositie
Van donkere, melancholische series tot positieve, zeer persoonlijke projecten en van geconstrueerde werken waarbij de nadruk op het proces ligt, tot schijnbaar tijdloze foto’s. Foam presenteert in de tentoonstelling haar visie op de stand van de fotografie op dit moment en creëert daarmee een podium dat opkomend talent introduceert binnen de internationale fotografiewereld.
De tentoonstelling is t/m 23 november 2014 te zien. De Foam Magazine Talent Issue wordt officieel gelanceerd tijdens de opening op 4 september.
De geselecteerde fotografen voor Foam Talent 2014 zijn:
Charles-Henry Bédué (FR), Andrey Bogush (RUS/FIN), Jonny Briggs (UK), Daniel Everett (US), Lucas Foglia (US), Julien Gremaud (CH), Jing Huang (CN), Otto Kaan (NL), Sasha Kurmaz (UA), Catharine Maloney (US), Yoshinori Mizutani (JP), Nerhol (JP), Eva O’Leary & Harry Griffin (US), Alice Quaresma (BR), Jan Rosseel (BE), Émilie Régnier (CA), Christto & Andrew (QA), Jennifer Niederhauser Schlup (CH), Sarah Ancelle Schönfeld (DE), Lukas Wassmann (CH), Hannah Whitaker (US).
Lees ook:Expositie Henry Moore in Musée Rodin
Lees ook:Institut Néerlandais in Parijs moet deuren sluiten
Lees ook:Hommage aan Sylvia Kristel in Parijs
Lees ook:Jonge Franse fotografe exposeert in Amsterdam bij Foam
Lees ook:Overzichtstentoonstelling Anthony van Dyck in Parijs